鉻硅旋轉(zhuǎn)靶采用噴涂工藝制得，可生產(chǎn)最大長(zhǎng)度4000mm，厚度及比例根據(jù)客戶要求定制。
鉻硅平面靶由高純硅、鉻熔煉鑄造得到的中間合金，再精細(xì)破碎成粉，經(jīng)過仔細(xì)的混粉，包套，抽真空，熱等靜壓得到CrSi錠坯，然后經(jīng)過機(jī)械加工制得，尺寸及及比例根據(jù)客戶要求定制。
純度：99.9-99.99%
應(yīng)用領(lǐng)域：薄膜太陽能工業(yè)，低輻射玻璃工業(yè)，工具及裝飾鍍膜工業(yè)。
詳細(xì)資料點(diǎn)擊下載
